本发明提供一种去除氢氟酸试剂中二氧化硅的方法，在氢氟酸试剂中加入氯化钾，充分搅拌混匀至出现沉淀，静置至分离出上层清液及沉淀；再在所得清液中加入氯化钾，搅拌混匀，直至清液在氢氟酸试剂中加入氯化钾，充分搅拌混匀至出现沉淀，静置至分离出上层清液及沉淀；再在所得清液中加入氯化钾，搅拌混匀，直至清液中出现沉淀，再静置至分离出上层清液及沉淀；重复
反应方程式：4HF+SiO2---SiF4+2H2O。这是二氧化硅的特性，所以可用HF来刻蚀玻璃，SiO2不跟其它酸反应。图(2)氢氟酸是透明液体去除1mg 二氧化硅需要硫酸铁10～20mg。在常温时，以铁盐作絮凝剂对含硅水进行处理后，可使水中残余溶解硅含量降至3～5mg/L。据报道，在水中加入适量的三氯化铁、铝酸钠和氧
⊙△⊙ 锅炉二氧化硅氢氟酸含量测定水样硅酸锅炉水二氧化硅含量测定方法的研究摘要：二氧化硅含量是评价锅炉水水质好坏的一个重要指标，目前我们采用《GB12148—89锅炉(54)发明名称去除氢氟酸试剂中二氧化硅的方法(57)摘要本发明提供一种去除氢氟酸试剂中二氧化硅的方法，在氢氟酸试剂中加入氯化钾，充分搅拌混匀至出现沉淀，静置至分离出上
其实不用加热也可以的，3个小时基本就可以反应完全，但是为了保险起见，10%HF, 50℃，3h，甚至更长时间，氢氟酸与SiO2反应速度很快的，2MKOH与二氧化硅反应速度一可以。氢氟酸和二氧化硅反应，生成氟化硅和水，最根本原理是生成了挥发性气体——氟化硅，因此会具有气体生成的现象，但是硅酸和氢氟酸是两种酸，不会发生化学反应
o(╯□╰)o 二氧化硅很容易被氢氟酸腐蚀，所以可以先把纯硅氧化成二氧化硅，然后用腐蚀二氧化硅的方法来腐蚀就可以了。首先要用氧化剂把纯硅进行氧化处理，常用的氧化剂有双氧水，发烟硝酸，反应如下第三步：氢氟酸浸泡半导体制造企业然后实施最后一步，HF浸泡，以从硅晶片表面去除二氧化硅。需要注意的是，HF是一种危险的化学物质，因此硅树脂制造商建议在此步骤中始终穿戴防护装备，如
