在光刻机的精度上，尼康最高只能做到32纳米，而荷兰ASML却能轻而易举造出7纳米的精度。如果芯片企业要生产高精尖的电子产品，势必要进口一批超高端光刻机，这时尼康和佳能的光刻机在当下，缩小DUV光刻机的技术差距，完成大于7nm的DUV光刻技术的全产业链国产自主，才是重中之重，毕竟卡脖子主要就卡在28nm至7nm光刻技术之间。当然，不追ASML不等于躺平，解决半导
一、日本光刻机最高水平是多少纳米
≥﹏≤ 凭借着雄厚的光学技术和半导体产业基础，日本的光刻机研制在上个世纪八十年代至九十年代，迎来了自己的高光时刻。对于美国这样的世界一流的科技大国，都可以轻松碾压，世界范围内更是没不过吃老本毕竟不是长久之计，虽然日方掌握的光学技术是世界第一的，但最终还是没能生产出最先进的光刻机。不过ASML做到了，它成功实现了反超。现在的光刻机市场ASML可以说一家独大
二、日本光刻机最高精度
∩＾∩ 众所周知，光刻机是芯片制造过程中最重要最关键的设备之一。也是国内水平较国际顶尖水平差距非常大的半导体设备之一。因为ASML的光刻机可以实现5nm芯片的生产，而我国最先进的光刻机其实并没有，日本一家名为Canno Tokki的企业和ASML共同称霸半导体行业，Canno Tokki生产的真空蒸镀光刻机垄断当时超过90%的市场份额。Canno Tokki生产的真空蒸镀光刻机精准度非常高
三、日本的光刻机水平
7、光学领域最重要母机之一的大型衍射光栅刻划机，全球只有3-4个国家有能力造，日本日立保有最高刻划精度10000g/mm 8、全球首台达到14nm节点制程能力的光刻机——日本尼康NSR-S621D。光刻机技术有多难搞？有人将它与核弹相提并论：目前，全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。10nm节点以下，ASML稳稳占据100%的市场，佳能和尼康等同业竞争对手难以打破这
