诸如在芯片代工领域，作为我国规模最大的芯片代工企业，中芯国际目前只能量产14nm芯片，距离目前高端芯片的7nm/5nm制程仍存在差距。而中芯国际CEO梁孟松曾对外透露2020年是中国半导体制造的大年。继去年四季度14nm量产成功后，中芯国际又计划于2020年四季度进行7nm试生产。鉴于中国大陆半导体产业链转移蕴藏着巨大机会，中芯
＞▂＜ 中芯国际希望改变技术路线的原因与目前美国对中国芯片领域的制裁和封锁关系密切。他表示，中芯国际的7nm进入风险量产阶段，按照之前的技术路线，下一步应该是5n不过目前中芯国际在7nm以及更先进的制程工艺上仍旧处于被限制的阶段，即使已经具备了足够的技术储备，但因没有EUV光刻机形成难以量产的困局。此次中芯国际与ASML签订12亿大单，
其中，EUV光刻机是服务于7nm以下制程芯片制造的设备。生产EUV光刻机的技术壁垒极高，除了光刻机结构的整体设计外，其零部件工艺也是目前光学及精密机械领域的极限水平。目前，德国的光7月6日下午，市场突然传来关于芯片光刻机的大消息。根据DigiTimes报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版DUV光刻机。消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹
在关键设备方面，上海微电子已经能够生产90/65nm制造工艺的光刻机；拓荊科技10nm制程的芯片产品正在研发中；中微公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于从65nm到14nm、7nm和5nm的集作为全球芯片代工的龙头，台积电光是7nm和5nm芯片的生产制造就创造出了49%的营收，其选择在南京扩产28nm,便可以利用国内的政策优势，结合自身的技术优势创造更大收益，同时也对中芯国际
芯谋研究表示，在中美科技战背景下，半导体产业受到政治的严重干扰，中芯国际更是被美国列入“黑名单”，其购买相关设备、材料等都受到了严重影响。外界熟知的是做7nm的EUV光刻机买不中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决研发步入正轨在半导体工艺进入10nm节点之后，制造越来越困难，其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了，而后者目前只
