4HF+SiO2--->SiF4(气体箭头)+2H2O (主要是因为生成SiF4气体，所以玻璃才会被“腐蚀”)2HF+Na2SiO3=2NaF+H2SiO3不过由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着非常重要作用。氢氟酸可用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反
关键词：氢氟酸机理中图分类号一般认为，氢氟酸中加入玻璃后，溶液澄清并有气体产生；产生这种现象的原因被认为是SiF4,有关反应的化学方程式为HFSiF4HFCaF2SiF4实百度试题题目氢氟酸刻蚀玻璃的化学反应方程式相关知识点：解析4HF+SiO2==F2+Si+2H2O 分析总结。氢氟酸刻蚀玻璃的化学反应方程式反馈收藏
氢氟酸和玻璃试剂瓶的反应方程式为：氢氟酸(HF)+ 玻璃(SiO2)→ 氢氧化硅(SiF4)+ 水(H2O) 该反应在室温下可以自发发生，是由于氢氟酸中的氟原子可以和玻璃中的氧原子结合，从而(1)用氢氟酸可以刻蚀玻璃，请写出其反应的化学方程式：__.(2)氢氧化亚铁在空气中久置被氧化，请写出其反应的化学方程式：__.(3)氢氧化铝沉淀可溶于过量氢氧化钠
