1985年，我国新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近美国光刻机巨头GCA公司4800DSW型光刻机的水平。值得一提的是，这是中国第一台分步投影式光刻机，虽不像一些资从2001年至今，中国光刻机产业不断取得成果，逐步走向成熟。2008年，中微半导体通过自主研发，“WS-3800”光刻机达到国际先进水平，一举成为中国光刻机产业的领军企业。此后，国内
我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平。但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作首先，国内光刻机制造商的整体实力仍然偏弱，很难在技术、市场、资金等方面达到国际顶尖品牌的水准。其次尚缺乏核心技术方面的支持，原生技术创新和证明性实验需大力加强。还需要促
甚至连65nm芯片都不能自主生产，虽说俄罗斯表示要在2028年生产用于7nm工艺制造的光刻机，但是在外界看来，这是难于登天，日本方面也表示要研发出2nm工艺技术，想要从22nm工艺跨越到21、技术水平逐步提高中国光刻机的发展历史相对较短，起步较晚。但是，近年来随着国家政策的支持和企业的不断努力，中国光刻机的技术水平逐步提高。其中，最具代表性的是“光刻机国家重
ˇ０ˇ 国产28纳米光刻机将达到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等中国光刻机的水平，大概就是比上不如，但比下却又不算是差的那个水平吧。中国是世界第二大经济体，但在光刻机领域内的排名，就比第二要低很多了。实际上，用国家来作为光刻机技术的比较
●０● 正如实验室主任陈春华所说，光刻机领域是一项光学技术和机械技术相结合的高端技术，需要长期的科学研究、技术积累以及大量的资金投入，要追赶国际先进水平还需要经过一定时间的沉淀其中，中微半导体是国内唯一一家能够生产高端光刻机的企业，其生产的光刻机已经达到了国际先进水平。中国的半导体光刻技术在应用方面也取得了一定的成果。在智能手机、平板电
