ASML最先进的光刻机是EUV光刻机，全球仅它一家能够生产。尼康最先进的光刻机是浸润式光刻机，也就是ArFi光刻机，采用的是193nm的深紫外线光源，但经过水这一层介质后，等效于134nm光光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，制造光刻机更被比作是在微观世界里“造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成，定位精度都是纳米级。
光刻机光刻机，又可以叫作淹没对准曝光机，芯片就是通过光刻机出来的，制造过程十分复杂，一台光刻机设备可以卖上上亿欧元。全世界只有荷兰和日本掌握了最先进的光刻机技术。芯片是的，就是那个芯片制造中最最最核心的设备(甚至没有之一),全球仅一家公司ASML有能力生产最先进EUV级别，一台能卖好几亿元、核心技术被美国垄断的光刻机。而且，
国产光刻机精度只有90nm。作为制造强国，我国许多行业对于90nm及以下制程的芯片，有着广泛的需求。电视机、智能家电、功能手机、智能机械设备等，都需要用到精度不高芯提及光刻机，相信更多人首先想到的肯定是ASML，毕竟这个企业是目前市场的佼佼者，也是唯一能够生产EUV光刻机的半导体设备供应商。目前ASML更是研发出了0.55NA的EUV光刻机，能够实现
最强、最先进光刻机：台积电2nm! 一台单价26亿元，这是目前最强的光刻机，而最先进工艺离开它，几乎没办法继续下去。据供应链最新消息，TSMC的目标是在2025年量产其2纳米(nm)半导体制造步进光刻机从20世纪80年代后期主导了IC制造业，主要用于图形形成关键尺寸小到0.35 微米（常规工线光刻胶）和0.25 微米(深紫外光刻胶)步进光刻机使用投影掩膜版。
╯０╰ 它的镜片粗糙度优于50pm以下（1pm=10^-12米）1]。最新一代EUV光刻机，最大镜面1.2m，表面粗糙米克朗的水准其实在很大程度上也反映出：俄罗斯的光刻机研发并不顺利。俄罗斯豪赌X射线光刻机据俄罗斯媒体报道：俄罗斯将投资6.7亿卢布，研发当前全球最先进的X射线光刻机，将比ASML
