那么，光刻机技术之难到底在哪里呢？为何连美国都造不出？中国的光刻机技术水平又达到了怎样的高度？让我们一起深入探讨。精度要求极高：光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯2018年，中芯国际曾预订过一台EUV光刻机，因为美国技术封锁，该计划已经被暂停。ASML在1997年成功加入EUV LLC，2012年吸引英特尔等客户投资自己，可谓带来了两大后果：一是凭借EUV
⊙﹏⊙ 首先，目前不光中国，所有拥核国家都没有制造出最先进的EUV光刻机，在这方面还不如没有原子弹的日本与荷兰。其次，拿做原子弹来跟做光刻机比，相当于列了一项不等式。原子弹和光刻机，连美国也造不出光刻机，荷兰能够垄断全球的原因是什么？荷兰能够垄断全球光刻机市场的原因主要有两个，一是荷兰公司ASML在技术上的领先地位，二是竞争对手的技术和市场等多种因素。A
＋０＋ 其主要原因既包括市场经济原因，也包括美国的本土人才方面等等，各种原因结合在一起，就导致美国虽然希望能够将光刻机技术放在本国半导体的核心技术当中。但是此时的美国已经无能为但到了1997年英特尔和美国能源部决定组建EUV LLC前沿技术组织的时候，美国光刻机企业早已败落。当年也就是在这样的背景下，荷兰ASML得到了加入该组织的机会，同时保证在美国建设一个
中国在研制光刻机的道路上已经走了20年，对于目前来说，我们需要攻克的是能够制造出浸入式28nm光刻机，完全实现14nm芯片国产化的问题。而更为遥远的能够制造出5nm芯片的EUV光刻机属答案是不能，美国目前也是制造不出光刻机，为什么？因为美国的路子走偏了，以前的美国是工业强国，两次“世界大战”让美国山姆大叔成了油腻的中年富豪，开始去工业化。去工业化的标
首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术，从光刻机的发展历程就能看出，它对于工艺节点的要求越来越高。高性能的光刻机当中集合了德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源光刻机如此复杂，那么作为世界头号强国美国能制造出来吗？答案是否定的，美国也无法独立制造出来。据“阿斯迈”光刻机公司透露、他们制造一台阿斯迈光刻机，从设计到制造完成、最少
