至于国产的制程工厂，有了深紫外光刻机，再加上SAQP工艺，再加上一些高端的半导体原料，搞出一条7nm制程的流水线，并不是什么难事。在老美与日本、荷兰联手，想要压制我们14纳米的产能，阻在半导体设备领域，在28nm光刻机领域，干式193nm、浸润式193nm的准分子激光器与双工台的核心技术已经攻克，上海微电子还在攻坚28nm浸没式光刻机，还有其他设备、材料等都在突围。而
首台国产28nm光刻机预计年底交付！上海微电子在28纳米浸没式光刻机领域取得了突破性进展。预计今年年底，他们将交付首台纯国产SSA/800-10W光刻机设备。此前，国家知识产权局公布了华为而6月2日，国产光刻胶大厂南大光电在互动平台上称，公司开发了多款ArF光刻胶在下游客户处验证，制程覆盖28nm~90nm。很明显，南大光电再次打破了国外垄断，毕竟28nm工艺的光刻胶，之
˙△˙ 我们要一步一个脚印的走下去，中国16个重大专项中的02专项提出，到2020年光刻机要达到22nm。目前主流是45nm,而32nm和28nm都需要在深紫外光刻机上进行改进和升级光刻机的固态深紫外光基于此，有人将此和中芯国际28nm工厂停建联系在一起，这其实是错误的。一方面并非所有的DUV光刻机都会被限，满足28nm成熟芯片生产的DUV光刻机依然可继续供货。另一方面，中芯国际只
近期，有国内知名媒体报导国产28nm光刻机即将于2023年底交付，该报导一时激起千层浪，被自媒体忽悠多年的国产光刻机终于迎来官媒的肯定，然而新华网的报导在全社会发酵多天后竟然删贴，据媒体报道指出上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。由于华为的遭遇，国人对于芯片制
显然，虽说我们在进口芯片设备上面临更加严峻的环境，但国产光刻机的研发从未停止，并且已经有着可观的突破。上海微电子时隔三年时间，终于打造出了精度达到28nm制程的国产光刻机，28nm光刻机领域突破不断国产化率日渐提升近日，有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W 2023-08-02 0
