最新哈工大光刻机消息,国产28nm光刻机进展

光刻机已是当下中国芯片制造的最大瓶颈，为此中国芯片产业链一直都在共同努力，力求打破这一难关，而哈工大公布的光刻机技术将有助于打破这个环节，国产芯片的先进工艺问题将因此而如今哈工大对DPP-EUV光源技术的突破正是我们独立自主研发EUV光刻机之路上的一个突破。尽管这条路上任重道远，但是有喜不如无喜。从近乎没有基础到在DPP-EUV光源上取得突破性进展，

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2022年12月7日，哈工大宣布“高速超精密激光干涉仪”荣获金燧奖金奖，引得网友直呼，突破了光刻机的关键技术，甚至说国产芯片将突破掣肘，那这到底是真是假，这项技术到底有什么作用呢？光刻机的重要性想要生产高端芯片，就离不开EUV光刻机等芯片制造设备。受制于《瓦森纳协定》以及美的影响，高端设备是买不来、求不来、换不来的，想要实现突破就必须依赖于自主研发。近期，哈工大

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≥ω≤ 如果搞不定物镜系统，那么我们就要被限制在当前这种193nm的干式光刻机上，而物镜系统突破了，就能进入浸润式光刻机，就能够实现7nm的光刻精度了。而哈工大的这项技术，是用于掩膜板这种光刻机通过超高密度激光干涉仪技术的突破，克服了真空环境下的限制，成功地制造了超高精度的真空双工件台。由此，哈尔滨工业大学荣获了中国光学领域最高荣誉奖项。这可以说是一

哈工大研究光刻机

欧洲人曾自负的说道“即便把制造EUV光刻机的图纸交给我们，以我们的技术也无法生产出光刻机”。哈工大成功击碎极紫外光源壁垒，在长春实验室成功搭建出一套完整的光源设备，迅速打脸欧哈工大的DPP-EUV光源出来，真的是史诗级成果，一流大学就应该有世界顶尖水平，这是哈工大在超精密加工，超精密测量领域几十年积累的结果！中科院长春光机所在光刻机所需的透镜及曝光系统上早已有突破，

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●△● 哈尔滨工业大学㊁清华大学在金刚石芯片㊁光刻机上有进展好消息一：哈工大在金刚石芯片上取得进展上个月，哈工大就已经宣布了这个好消息，金刚石芯片有了新的进展㊂只不过现在那么怎么办？近日网传哈工大，哈工大正在研发EUV光刻机，而重要的光源部分，采用的是DPP-EUV光源，同时中科院长春光机正与哈工大合作，基于DPP-EUV光源研EUV曝光机，预计2年内可以推出。