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氢氟酸腐蚀玻璃的离子方程式,计算说明HF能蚀刻玻璃

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氢氟酸主要可分为有水氢氟酸及无水氢氟酸。其中有水氢氟酸呈弱酸性,可作为干法、湿法氟化铝的主要原料,也可用于酸洗金属、蚀刻玻璃及硅晶体,还可作为催化剂使用。无水氢氟酸为强酸4HF+SiO2--->SiF4+2H2O

93、氢氟酸腐蚀玻璃SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O94、向氯化钙溶液中加入氟化钠溶液CaCl2+2NaF=CaF2↓+2NaCl95、卤化银(X=Cl、Br、I)见光分解2AgX2Ag+X296、向碘化钾溶液中通入臭氢氟酸腐蚀玻璃的化学方程式常温下,二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和水反应的化学方程式为:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O,©2022 Baidu |由百度智能云提供计算服务| 使用百度

氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成气态的四氟化硅反应方程式如下: SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l)(1)氢氟酸腐蚀玻璃:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O (2)氢氧化钠溶液腐蚀玻璃:SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O (3)氢氧化钠溶液吸收氯气:Cl2+2NaOH═NaCl+NaClO+H2O (4)氯气用于自来水消毒杀菌:Cl2+H2O?HClO+HCl

硅与氢氟酸反应的离子方程式是什么1、氢氟酸和硅反应的离子方程式是:Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面加气体符号) 。2、氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,清澈,无色、发烟的(1)常温下,二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和水,反应的化学方程式为:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O,故答案为:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O;(2)氢氧化亚铁和氧气是反

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