,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的光刻机以光为媒介，刻画微纳于方寸之间，实现各种微米甚至纳米级别的图形加工。目前，世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条。而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米，也
更令人吃惊的是目前世界上最先进的，能够达到7纳米精度的光刻机只有这家荷兰的ASML公司能够生产，可以说它是世界上垄断性最强的公司了！ASML公司的发展影响着全世最强光刻机？制程工艺的提升，主要依赖于EUV光刻机。目前，世界上能够生产EUV光刻机只有ASML一个独苗。其最新研发的0.55NA EUV光刻机，已经成为了芯片头部制造企业（台积电、三星和
最高4纳米。光刻机本身最高的应该是euv极紫外光光源波长的光刻机，其波长为13.5纳米。用euv光刻机可以制造22纳米以下制程的芯片，目前最高可商业量产芯片的制程为4纳米，分别是高通骁目前世界上最先进的光刻机是ASML公司生产的EUV(极紫外)光刻机，采用的是13.5纳米波长的光源，其分辨率已达到了7纳米。综上所述，中国最先进的光刻机是22纳米，尽管中国在EUV光刻机方面
而上面提及的全球最高精度光刻机就是“ZyvexLitho1”，目前来说这款光刻机系统是全球最高分辨率的亚纳米分辨率光刻系统。“ZyvexLitho1”是谁生产的？出自知名度不高的美企Zyvex La目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机(EUV),是目前全球最顶尖的光刻机设备。中国目前最先进的光刻机应该是22nm
