NXT:2000i及以后更先进的型号以后不能买了，这轮封锁之前实际上还是可以买的。国内企业也确实买过更先进的NXT:2050i型光刻机，并且已经买了的产品这次制裁并不影响其售后。那么制裁新ASML保留的这个后手就是继续对中国出售NXT:1980Di,这款型号的光刻机其实同样属于浸润式光刻机，在数年前其实是属于相当先进的光刻机，台积电不仅将它用于生产14纳米工艺，还用于生产第
总结来说，此次荷兰政府出台的关于ASML部分浸没式光刻机的限制基本符合之前的预期，虽然NXT:2050i和NXT:2000i受限，但是NXT:1980Di 依然是可以出口到中国，目前国内大量采用NXT:1980例如ASML的NXT:1980Di光刻机虽然主要被用作生产45纳米及以下工艺芯片，但是如果通过多重曝光技术，则可以做到7纳米。台积电第一代7纳米工艺芯片，就是NXT:1980Di光刻机所制造的，所以
∪△∪ 查询ASML官网可知，TWINSCAN NXT:1980Di光刻机属于DUV光刻机，是一种「高生产效率的双阶段浸没式光刻工具，旨在于10nm以下的节点批量生产300mm晶圆」。它采用193nm的ArFi光源，解析度≤ 38nm,数值孔径国内最为主流的、针对成熟制程应用较多的ASMLNXT1980Di光刻机有望正常获得，我们预计国内晶圆厂的成熟制程扩产正常推进。据芯智讯称，NXT:1980Di虽然分辨率在38nm左右，但是依然
＋ω＋ 型号NXT1970Ci/1980Di 加工定制是新旧程度二手售后服务是技术方案是现货是库存数量1台晶圆大小300nm 光源193nmArF 最大分辨率38nm 最低产能250个晶片发货地笔者也从ASML的官网查询到这台型号为TWINSCAN NXT：1980Di的光刻机拥有最高10nm的量产性能，想必就是武汉弘芯用来部署14nm工艺的光刻机。然而这台本应该打开国产芯片大门的光刻机，
那么就很明显了，这三种高端的DUV光刻机中，只能出口一种浸润式光刻机，那就是TWINSCAN NXT:1980Di，也就是相对最落后的那一种，其它两种，由于太先进了，所以是不能出口到中国来的DUV光刻机是通过多次曝光技术才突破到10nm工艺之内。武汉弘芯被抵押的NXT 1980Di DUV光刻机，被验证过的最高制程工艺只支持10nm。多重图像工艺虽然可以将单次曝光的38nm能力提升到7
