核心技术的缺失，对于一个产业来说是致命的，在半导体领域由于我国无法生产出高端的光刻机，并且在进口的道路上也被老美所封堵，导致产业的发展严重受挫，现如今的局面就是——有钱也买是纯国产的。国产90nm光刻机是纯国产设备。目前全世界只有四家公司能够制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦尔
从以上情况来看，除光刻机外，国产的设备技术节点都可以达到28nm,有的已经达到14nm。据说，90nm光刻机通过多重曝光也可以做出28nm,只是成本高良率差。因此，最关键的还是要突破国产28n百度爱采购为您找到38条最新的国产全自动光刻机产品的详细参数、实时报价、行情走势、优质商品批发/供应信息，您还可以免费查询、发布询价信息等。
另外，国产DUV光刻机也指日可待。近期有消息称，上海微电子将在今年正式推出28纳米光刻机。据悉，上海微电子推出的光刻机，是目前较为先进的“浸入式”光刻机，在芯片制程中，通过国产光刻机有一个好的起点，但尴尬的是，因为当时国内半导体产业整体太薄弱。国产光刻机虽然研发出来，却没有很好的下游应用市场，无法真正走上市场和商业化的道路，只能停留在实验
在性能方面，中国纯国产光刻机的分辨率已达到22纳米以下，与国际领先水平相当。同时，中国纯国产光刻机还具备更多的优势，例如控制系统的稳定性、操作的易用性以及运行的智能性等方面，高端光刻机被誉为迄今为止是人类制造出来的最精密的仪器(没有之一),其内部的配件高达十多万个，截止到目前全球也仅有4家企业能生产光刻机，分别是荷兰的ASML,日本的佳能、尼康、中国
(＊?↓˙＊) 众所周知，目前国内纯国产光刻机已经可以制造14nm工艺的芯片，未来更是要研发出7nm、5nm的光刻机技术，实际上国产光刻机已经很厉害了，为什么要这么说呢？因为除了荷兰ASML的EUV光刻而90纳米级别的光刻机，已经实现国产化一段时间了。至于后道封装和平板显示等需要的同类设备更是已经国产化多年。而生产线上的蚀刻机，国产设备已经做到了7纳米
