SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工然而中芯国际目前用来量产14nm工艺的却是ASML的低端DUV光刻机，而非选择与上海微电子共研支持最新工艺
这样的成绩，俄罗斯媒体也直接报道了。上海微电子22nm光刻机的研制，也让其他国家看到了我们发展的可能性。现在我们在芯片技术上有了一些更高层次的突破，相信未来的发展会更好。好了不得不说，好消息确实来了，光刻机，这次是上海微电子。想必大家也都了解，上海微电子是我们国产光刻机的整机集成商，其市场角色与ASML无异。但由于我们发展光刻机产业的时间较晚，所以目前上海微
不过，纵然是国内光刻机行业的龙头企业，上海微电的起步时间相较于国外，依然晚得多，比如2002年成立时，荷兰ASML已经成立18年了，距离ASML1997年开启EUV光刻机研发也已经过去了5年目前，这一封装光刻机制造技术，国际上仅少数几个国家掌握。上海微电子装备(集团)股份有限公司副总经理黄栋梁：它现在单次静态的曝光视场可以做到60毫米乘60毫米，我们可以一次将很多个
∪▽∪ 目前上海微电子装备中心能够生产出最好的光刻机，依然是90nm光刻机。据报道，上海微电子将在2021年交付采用ARF光源制程工艺为28纳米的光刻机。也就意味着上海微光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我
9月19号，上海微电子装备集团（以下简称“上微”）宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进封装光刻机！首台计划于年内交付使用！目前，上微已经与多家客户达成销售协议！新一代也就是说，上海微电子交付的全新一代先进封装光刻机的作用是很大的。上海微电子官宣交付首台先进封装光刻机之后，就有外媒表示，ASML说的没错。据悉，ASML目前是光刻机领域内的领先
