中国科学院光电研究所，造出新型超分辨率光刻机，能够实现22NM工艺制程，现在已经投入使用，现在我国在光刻机领域取得的突破，能够实现高分辨，大面积的纳米光刻研发路线，等于是闯根据有关新闻报道，中国科学院微电子研究所宣布，自主研发出了一台国产的光刻机，并在全国范围内掀起了轩然大波，彻底摆脱了“自嗨”的状态。而光刻机，则是一台非常关键的机器，用
中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。光刻机又名掩模对准曝光机中国光刻机的发展历史相对较短，起步较晚。但是，近年来随着国家政策的支持和企业的不断努力，中国光刻机的技术水平逐步提高。其中，最具代表性的是“光刻机国家重大科技专项”，这
ˋ＾ˊ〉-# 但说实在的，ASML在生产EUV光刻机过程中，其中也是大量需要老美所提供的配件，甚至是技术。正因如此，在老美的干预下，ASML也是无法像我国提供EUV这样的高端光刻机，只能提供DUV这中国有光刻机，目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm
在当下国际形势下，中国科技企业精工爱普生发布的国产光刻机——SME-1905的成功研发，意味着我国的集成电路和半导体产业将得到重要进展。积极推动独立自主创新，不断推进技术突破和中国自主研发光刻机，已经小有成果尽管遭遇美国的封锁，中国并没有放弃自主研发光刻机的努力。据报道，中国科技团队已经成功地研发了一系列不同制程的光刻机，包括90、65、45以及2
芯片是工业制造的最高水平体现，中国的芯片制程此前只有28纳米的精度，最近有好消息传出，我国造出新型光刻机，可以实现22NM工艺制程，已经投入使用。光刻机对于芯目前作为参照比较的话，美国的电子束光刻机，在实验室中实现了0.7NM芯片的制造，这个精度是让人震惊的，虽然没能达到量产，但是在研发成果和参考意义方面，都是具有非常重要的作用。打开
