媒体指出，虽然中国将因此而增加高端光刻机国产化的难度，但近日半导体界传出消息称，上海微电子预计在2023年底能将交付首台国产28纳米浸润式光刻机。据报道，光刻机是半导中国的28nm光刻机分享：光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪2023-07-07 11:46:07 中国已经成功交付首台国产光刻机中国已经成功交付首台国产光刻机，该款
然后一天后……删稿还挺快，新闻专业的学生手速确实不俗，相信打王者荣耀也是一把好手。之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，这是一台国产浸没式DUV 光刻机，可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息，有人说
但值得庆幸的是，上海微电子正致力于28纳米浸没式光刻机的研发，预计今年年底向市场交付第一台国产SSA/800-10W光刻机设备，不仅能制造28nm芯片，最高还能制造7nm芯片，在紧要光头为我国芯片产业的首台国产28nm光刻机预计年底交付！上海微电子在28纳米浸没式光刻机领域取得了突破性进展。预计今年年底，他们将交付首台纯国产SSA/800-10W光刻机设备。此前，国家知识产权局公布了华为的一项新
∪▂∪ 目前28nm国产光刻机主要是上海微电子在全力研发，有预告其将在2021年底完成第一台28nm国产光刻机的交付，国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺，同时也将具备向先进芯片所以，以上两人的论断要加上一个前提条件，那就是“先进制造工艺”的光刻机。我们常说的高级芯片是指生产工艺小于28nm的芯片，也就是2814753nm的工艺。这次上海微电子在光刻机举行首个2
