在四大关键技术突破并量产的基础上，上海微电子作为中国唯一的光刻机研究生产机构，将以此为基础研制出国产化的28纳米浸润式光刻机SSA800。此前曾有传闻称上海微电子28纳米光刻机将首先简单科普下这种光刻机，DUV是深紫外光的英文缩写，深紫外光波长193nm,通过透镜成像，以及折射原理可达到28nm曝光效果，然后再利用双工作台进行多次曝光原理，最高可达到7nm,阿
＋▽＋ 近日，国产光刻机厂商上海微电子在之前90nm的基础上，宣布即将量产28nmimmersion式光刻机，在2023年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。immersion式光刻机就是浸没式光刻机，而好消息是新华社6月29日报道：由上海微电子自主设计制造的我国首款DUV光刻机SSA800已经进入量产阶段。要知道，DUV光刻机作为我国中端芯片制造产业链中最坚固的堡垒，它的量产代表着
虽然早在2020就有消息称上海微电子的国产DUV光刻机SSA800即将在2021年下线。然而，实际机器的交付已经延迟到了现在。据《电子技术设计》报道，上海微电子装备(集团)股份有限公司(以另，上海微电子的SSX600系列光刻机已出货4-5台，正在提高良率。注：SSA800/10W对标产品为ASML 2018年推出的TWINSCAN NXT:2000iNXT:2000i DUV光刻机类型：深紫外光刻机制程：7-14纳米
