2,虽然媒体报道上海微电子很快交付28纳米光刻机SSA800 / 10W,但此报道未经证实；跳两代并突然推出SSX800光刻技术是不可能的；3,即便是2年后推出28纳米光刻机，但仍需要额外4年实现量而最新研制的28纳米光刻机SSA800有了新进展，其照明系统与投影物镜、光源、双工件台、浸液系统这四大关键技术均已实现突破，正进行量产。国产光刻机的突破，保证了在全球芯荒的局势之下，能够稳定
标题：SSA/800-10W 28纳米年底量产吗发信站：水木社区(Sat Dec 24 08:27:25 2022), 站内【以下文字转载自NewExpress 讨论区】发信人：findmyhappy (sss), 信区：Ne而好消息是新华社6月29日报道：由上海微电子自主设计制造的我国首款DUV光刻机SSA800已经进入量产阶段。要知道，DUV光刻机作为我国中端芯片制造产业链中最坚固的堡垒，它的量产代表着
╯＾╰〉 这次的权威媒体是《新华网》新华网报道指上海微电子正在推进28纳米光刻机的量产，预计在今年底前量产，并且还披露了光刻机的型号，光刻机的型号为SSA/800-10W,能如此明确就意味着它的注：SSA800/10W对标产品为ASML 2018年推出的TWINSCAN NXT:2000iNXT:2000i DUV光刻机类型：深紫外光刻机制程：7-14纳米效率：1小时275片。如果消息属实，则SSA800可用于14纳米制程，不
中国芯打破技术壁垒：上海微电子和中国电科28纳米芯片产业链本土化全面成功近日，引人瞩目的消息传来：上海微电子的28nmDUV光刻机SSA800已经量产，并且中国电科的2在四大关键技术突破并量产的基础上，上海微电子作为中国唯一的光刻机研究生产机构，将以此为基础研制出国产化的28纳米浸润式光刻机SSA800。此前曾有传闻称上海微电子28纳米光刻机将
