＋＾＋ 如今在华为受到了芯片打压之后，国内企业突然意识到自主技术的重要性，但是现在却没有拿得出手的技术。台积电已经在量产5nm工艺芯片了，而国内还在为28nm光刻机的研发成功而喝彩，现在所以28纳米光刻胶的研发成功，就意味着我们距离EUV光刻胶的研发成功又近了一步，如果老美禁售了EUV光刻胶，即便我们研发出了EUV光刻机，那么也无从验证，更无法量产走向市场，实现
●ω● ,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳因此ASML毫无顾忌地向我国高价提供自己根本看不上的1980Di DUV光刻机，并凭借这款仅能量产38nm的光刻机囊获了巨额的利润。在ASML看来，我国想要取得尖端芯片的光刻机技术仍需要很长
说完了国外的光刻机，接下来该说咱们中国的国产光刻机了，首屈一指的当然是上海微电子了。目前上海微电子已经量产的是90nm光刻机，不过据说28nm的光刻机已经到了最后的攻坚阶段，估计不近日，国产光刻机厂商上海微电子宣布即将量产28nmimmersion式光刻机。该光刻机采用ArF光源，也就是193nm波长的光源，是第四代光刻机。这标志着中国和ASML在光刻机
而目前我国是可以量产28纳米芯片的，这些芯片虽然不及4纳米芯片的制程工艺难度高，但用于航空航天、家电产品、汽车工业上，还是游刃有余的。如果想要继续量产28纳米芯片，首先要解决近日，国产光刻机厂商上海微电子在之前90nm的基础上，宣布即将量产28nmimmersion式光刻机，在2023年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。immersion式光刻机就是浸没式光刻机，采用Ar
