28nm光刻机也就是DUV光刻机，采用了波长为193nm的深紫外光，能够制造28nm芯片，双重曝光后可以制造14nm芯片，但是良品率会下降。至于部分媒体所说的4次曝光可以制造7nm芯片，这种技术恐首台国产28nm光刻机预计年底交付！上海微电子在28纳米浸没式光刻机领域取得了突破性进展。预计今年年底，他们2023-08-03 16:46:31 28nm光刻机领域突破不断国产
纠正一下，28nm的光刻机(SSX800型)到今天依然没有做出来，可能还要1-2年，上海微电子所的前道光刻机今天只能生产90纳米(SSX600型)的，当然，中国手里存量的ArF DUV摘要：而根据国外媒体verdict最新的报道称，“中国国产28nm DUV光刻机计划在今年年底前从上海微电子(SMEE)生产出来，并在上海专有的生产线上为物联网设备制造48nm
⊙０⊙ 据媒体报道，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂，但是差距已目前，上海微电子正致力于研发28nm浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。上海微电子在之前90nm的基础上，即将量产28nm imme
日本的尼康研发的光刻机能够生产14nm芯片，当然美国也具备这个能力。上海微电子目前已经研发出了90nm光刻机，这样的光刻机能够生产28nm芯片，这个实力也算不错，28nm光刻机领域突破不断国产化率日渐提升近日，有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付
中国已经成功交付首台国产光刻机，该款光刻机由上海微电子研发，名为“SMEE光刻机”。2023-07-06 17:15:26 上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机中国半导体产业链最大短板是光刻机，目前上海微电子已经早早量产了90nm光刻机，并有望在未来两年内实现28nm光刻机的国产化替代。这将意味着，除了对性能功耗要求极高的手机产品外，其他产品也将不
