据媒体报道，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。光刻机的组成十分复杂和精密，虽然有消息表明上海微电子已经研发28nm光刻机，但这种光刻机并未得到验证，离量产上市还有很长一段距离。5，虽然上海微电子的光刻机技术和ASML相差甚远，但国内供应商也在努力，多
∩﹏∩ 最后，在上海微电子28nm光刻机还未正式交付之际，国产成熟晶圆的扩产任务势必会受到影响，所以盲目扩充芯片产能并不明智，中芯国际此举将降低对光刻机的消耗，以此来保留更多可持续生产的“缺乏EUV光刻机，但中科院、华卓精科等科研单位逐步攻克了EUV光刻机核心系统，上海微电子28nm光刻机也即将实现量产。此外，为满足企业的资金需求，国内还设立了科创板，为有技术实力
∪△∪ 上海微电子28nm光刻机验收失败事件如下：原本预期2021年年底交付的上海微电子28nm光刻机，并没有如期通过验收的消息，显然这说明还或多或少存在一些障碍。但就在可惜，截至到目前为止，仍未有确凿的消息显示，上海微电子的“28nm光刻机”能够在年底交付。由此，网上出现“今年搞定28nm光刻机的目标已经失败了，上海微电子没有通过02专项的国家验收”的消息也不难
＞ω＜ 首台国产28nm光刻机预计年底交付！上海微电子在28纳米浸没式光刻机领域取得了突破性进展。预计今年年底，他们将交付首台纯国产SSA/800-10W光刻机设备。此前，国家根据芯智讯报道：早在2020年6月的时候，网上就曾传出过国产“28nm光刻机”即将在2020年年底交付的传闻，当时芯智讯根据某开发区发布的新闻稿当中也找到了相关的信息，称“到2020年产品将
