到了2007年，上海微电600系列光刻机问世，型号主要包括SSA600/20、SSC600/10和SSB600/10三款，可满足90nm-280nm关键层和非关键层的光刻工艺。600系列的推出距今也有15年的时间了，SSA600/20 SSC600/10 SSB600/10 SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm
百度爱采购为您找到75家最新的ssa600 光刻机产品的详细参数、实时报价、行情走势、优质商品批发/供应信息，您还可以免费查询、发布询价信息等。我们平时指的ASML的EUV光刻机，是指前道光刻机，用于晶圆的制造，目前上海微电子对外公开的前道光刻机型号是SSA600/20，只能用于90nm的分辨率，落后ASML的EUV光刻机，至少是10年以上的差距。而封
百度贴吧-国产最先进光刻机专题，为您展现优质的国产最先进光刻机各类信息，在这里您可以找到关于国产最先进光刻机的相关内容及最新的国产最先进光刻机贴子观察者网查询上海微电子官网发现，该公司光刻机产品分为用于IC前道制造的600系列光刻机和用于IC后道先进封装的500系列光刻机。其中，600系列光刻机最新型号SSA600/20的分辨率为90nm，而500系列光
在这则新闻报道中，清华方面表示：我国在14nm及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口。关注国产光刻机的朋友应该了解，目前国产光刻机的最先进型号，是来自上海微电子的SSA600/20，该已知的，现有的最先进自主光刻设备，是上海微电子(SMEE)在2017~2018年间通过国家验收的SSA600/20型前道光刻机。该设备的分辨率为90nm,通过“N+1”可用于45nm制程半导体器件的生产。
众所周知，目前国产最先进的光刻机是上海微电子的SSX600系列光刻机。其中最先进的型号是SSA600/20，在分辨率这里写的是90nm。也因为写着90nm，所以很多人争起来了，有人说最多就是上海微电子已经量产的SSA600系列光刻机分辨率为90纳米，技术参数上与佳能相当，研制中的SSA800浸润式光刻机则追赶上了尼康的脚步，一旦研制成功将成为世界第三家能够生产浸润式光刻机
