但由于我们发展光刻机产业的时间较晚，所以目前上海微电子的光刻机，最多只能支持90纳米工艺。然而就在近日，上海微电子已经成功出货一台光刻机，这被外媒解读为，ASML正被中企加速说再见。这么说最新的消息，预计上海微电子28nm的光刻机也会在年内交付，这台光刻机经过多重曝光可以生产14nm芯片，
＞▂＜ 上海微电子虽然也可以做出前道光刻机，但相比光刻机巨头ASML差距还很大，目前仅突破了90nm的光刻机。但还有希望，据说28nm的DUV光刻机正在加速攻坚。并且据相关人士透露消息，不只是光刻机是生产制造芯片的必要设备，没有光刻机，可以说芯片就不复存在，尤其是先进的光刻机。目前，全球有四家企业可以独立研发制造光刻机，其中，上海微电子是国内厂商，而ASML是光
我国上海微电子生产的90nm的光刻机，可以用来做电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等。90nm工艺的芯片完全可以满足国民生产需求。芯片有几十万种，可该公司是国内领先的光刻机设备制造商，在前道光刻机领域掌握了90nm制程工艺，有消息称上海微电子还将交付28nm光刻机。但在此之前，上海微电子完成了另一大破冰。2月7日传来消息，上海微电子交付了中
并没有所谓的90纳米光刻机一说。包括什么28纳米光刻机。90纳米，28纳米是指芯片的加工工艺制程，并不是光刻机参数。现在能生产先进制程芯片的主要是DUV和EUV浸入式光刻机。肯定是1台也没有的。由于众所周知的原因，中芯国际早在2018年花费1.2亿美元订购的EUV光刻机，一直未能交付，显而易见短期内交付EUV光刻机的可能性也不大。
其实这里要先说明一下光刻机的分类，从用途上区分，其主要有四大类：制造芯片的前道光刻机，封装芯片的后道光刻机，制造LED/MEMS/功率器件的光刻机，以及制造TFT液晶屏的光刻机。而上海2009年至今，上海微电子通过自主攻关，已先后研发、制造出三代光刻机产品。其中，封装光刻机在全球市场占有40%以上的份额；国内市场占有率超90%,技术水平已迈入国际第一梯队。“十四五”
