＼ ＿ ／ 我国生产光刻机最好的企业是“上海微电子”，量产90nm工艺的光刻机，而荷兰ASML最新的额光刻机是7nm EUV光刻机，差距还是比较大的。上海微电子是一家系统集成商，不2020年6月的消息称：上海微电子设备有限公司透露将在2021—2022年交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
上海微电子28纳米光刻机SSA800的成功量产
1.北京科益虹源：此前交付了40w 4kHz ArF光源的样机应用于上海微电子90纳米光刻机，但主流DUVArF浸没据DIGITIMES报道，上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光(DEV)光刻机，该设备可使用28纳米工艺生产芯片，并使用国产和日本组件，为国内半导体产业摆脱对美国依赖迈出的重要一
上海微电子28纳米光刻机SSA800的成功量
这样的成绩，俄罗斯媒体也直接报道了。上海微电子22nm光刻机的研制，也让其他国家看到了我们发展的可能性。现在我们在芯片技术上有了一些更高层次的突破，相信未来的发展会更好。好了没做出来。实际上90纳米光刻机也基本没有企业愿意用，一共只出货了个位数，除非【万不得已】才能用。当然，中国的刻蚀机等行业很厉害，可以5纳米。但光刻机和其他设备【不可同日
上海微电子28纳米光刻机SSA800
ˋ０ˊ 不过值得一提的是，近期有媒体报道称，上海微电子装备披露将于年底量产28nm的immersion式光刻机，在2021年至2022年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。虽然业界对此消息颇有争议，但另，上海微电子的SSX600系列光刻机已出货4-5台，正在提高良率。注：SSA800/10W对标产品为ASML 2018年推出的TWINSCAN NXT:2000iNXT:2000i DUV光刻机类型：深紫外光刻机制程：7-14纳米
上海微电子28纳米光刻机SSA800的量产了没有
╯＾╰ 这样的话，也说明上海微电子光刻机也将通电试运行，也就是90nm的ArF光刻机。具体情况如何，目前不能完全确定，还要看官方的正式消息。不过，从网友传出的消息和查询的情况来看，可值得一提的是，国内光刻机制造商上海微电子，近日传来好消息，其生产的ArF光刻机已进入中企产线，且水平超过了佳能。上海微电子ArF光刻机进入中企产线据每日经济新闻消息，日前，
