国产浸入式深紫外光刻机SSA/800-10W今年就会下线首套担心ASML的NXT2000i不卖的可以放心了SSA/800-上海微电子的SSA800这东西好像只存在于自媒体的(说雏形通过验收了)、特别是财经类的自媒体那里，可信度真的好低……传说中的SSA800这个光刻机已经算比较好的DUV光刻机了，按照
注：SSA800/10W对标产品为ASML 2018年推出的TWINSCAN NXT:2000iNXT:2000i DUV光刻机类型：深紫外光刻机制程：7-14纳米效率：1小时275片。如果消息属实，则SSA800可用于14纳米制程，不中芯成都代工，采用上海微光刻机SSA800/10W浸入式光刻机参数：镜头NA:1.35 单次曝光分辨率：38-41nm 双工件台：DWSi,产率在每小时200片晶圆套刻精度：优于2.5nm
≥ω≤ 中芯成都代工，采用上海微光刻机SSA800/10W浸入式光刻机参数：镜头NA:1.35单次曝光分辨率：38-41nm双工件台：DWSi,产率在每小时200片晶圆套刻精度：优于2.5nm设计指标：能够在单次曝光条件下满足28nm平不过中芯国际曾允诺适当产能，可为光刻机的研制提供试验的场所。大家都是为了生存，这种选择合情合理。
近日，网上有传闻称，上海微电子的“28nm光刻”(传闻型号为SSA800/10W)机没有通过02专项的国家验收，无法在2021年底完成，28nm光刻机卡住了“02专项”。该消息随后引发了众多网友的关注和热议。而最新研制的28纳米光刻机SSA800有了新进展，其照明系统与投影物镜、光源、双工件台、浸液系统这四大关键技术均已实现突破，正进行量产。国产光刻机的突破，保证了在全球芯荒的局势之下，能够稳定
