上海微电子虽然也可以做出前道光刻机，但相比光刻机巨头ASML差距还很大，目前仅突破了90nm的光刻机。但还有希望，据说28nm的DUV光刻机正在加速攻坚。并且据相关人士透露消息，不只是上海微电子是目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，具备90nm及以下的芯片制造能力。根据公开数据，上海微电子光刻机出货量此前已占到国内市场份额超过80%。上海微电子目前最大股东
上海微电子是中国领先的半导体集成电路制造企业之一，其拥有自主知识产权的14nm工艺流程在国内首次实现大规模商业化生产。该工艺的核心是14nm光刻机，是制造高精光源波长193nmDUV光刻机之间也是有区别的，台积电N7用2000i量产的，2050i在多个方面进行改进，能让客户
⊙▂⊙ 在当下成熟芯片制程朝着14nm迈进的过程，国产光刻机显然已经赶上了进度。虽然距离台积电2nm制程还有差距，但是按照上海微电子的计划，最快将在2025年实现EUV光刻机的研发和交付使用。届在前不久召开新闻发布会，上海方面宣布在集成电路领域已经取得重要成绩：上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现
∪▽∪ 90纳米的光刻机，就是来自上海微电子，这也是我们国内唯一一个有可以量产光刻机的芯片半导体企业。中微是5纳米刻蚀设备的先驱，并且中微是世界上数一数二的企业，他们的5纳米刻蚀机实际上这一次我国所制造出的14nm这一成熟制成芯片所使用的光刻机，仍然是从ASML手中在一定情况下引进到的。所以实际上在这一次对于这一芯片的研制过程当中，依然包含了美国方面的相关技术。其中的
