超分辨率光刻机不同于荷兰ASML的光刻机的曝光方式，荷兰EUV光刻机使用的是13.5nm波长的光源，其DUV光刻机，使用193nm波长的光源。传统光刻机用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精现在国外断供，自己搞出来就有市场，巨大的利益驱动让咱技术突破不断：上海微电子量产28nm光刻机、中科院推出22nm超分辨率光刻机、武汉光电所刻出9nm宽度线段、中微公司破冰5nm刻蚀机
目前，中国上海微电子已经能够量产90nm的光刻机，并即将交付28nm光刻机，经过技术改进，还可以制造出14nm的芯片。另外，清华大学在光刻机零部件方面同样取得了可喜的近日，网上有传闻称，上海微电子的“28nm光刻”(传闻型号为SSA800/10W)机没有通过02专项的国家验收，无法在2021年底完成，28nm光刻机卡住了“02专项”。该消息随后引发了众多网友的关注和热议。
$中芯国际(SH688981)$ 2021年马上要过完了，28nm国产光刻机或者02专项还是没有验收通过的正向消息，大概率今年攻关失败要等明年了。也难为上海微电子了，这个是系统工程，产业链上的一些器件落后不只上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机据媒体报道指出上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩
╯▂╰ 迄今也已经过去了九年时间，在芯片产业链领域虽然有不小的进展，但是在光刻机等芯片制造设备的基础研发层面却依然步履艰难，推进乏力，本来预计2020年通过验收并实现量产的28nm光刻11月18日消息，B站大V马督工睡前消息第353期爆料称，从各方面得到的信息来看，上海微电子研发的28nm光刻机由于没有通过02专项的国家验收，因此上海微电子的28nm光刻机将无法在2021年内完成供货。
