搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”。但是verdict并未说明具体的信息来源晶瑞顺利购得ASML XT 1900 Gi 型光刻机一台，可研发最高分辨率达28nm 的高端光刻胶调试。此外，这款ASML XT 1900 Gi 型ArF 浸入式光刻机可用于研发最高分辨率达28nm 的高端光刻
好事成双，国产光刻机传来好消息，上海微电所研发的首台国产28nm光刻机已经完成了认证，年底将要量产。这台Duv光刻机可以量产28nm芯片，可以满足大部分芯片的生产要求。大家可别小光刻是晶圆生产的核心环节，包括光刻机和涂胶显影机。我国的光刻机技术比较落后，最先进的上海微电子也只能量产90nm的沉浸式光刻机。据报道，上海微电子将在2021年完成首台28nm国产光刻机的交付。
好消息！中国首台28nm光刻机完成认证，张忠谋终于急眼了发布于2021-08-18 11:09 · 1.3 万次播放赞同15 条评论分享收藏喜欢 举报台积电(TSM近期，根据相关媒体报道：我国上海微电子公司研制的首款国产28nm光刻机已经完成了技术检测和认证工作，预计在今年年底就会能正式投入使用并开启量产计划。我国的这款28nm光刻机作为
中企首台光刻机搬入在所有的芯片制造设备中，光刻机无疑是最重要的设备之一，也是我国芯片产业最大的短板之一，制约着我们芯片制造向高端化迈进，因为国产光刻机最高才90nm。因此，即在清华大学机械工程系教授朱煜牵头作用下，中国光刻机核心零部件顶级供应商华卓精科公司的光刻机双工作台宣布研发成功，此项光刻机双工作台技术打破了荷兰ASML在光刻机双工作台技术
